華為夥伴秀晶片設備與軟體 力證中國半導體野心未止步

根據《彭博》周三 (15 日) 報導，就在美國總統川普威脅進一步限制中國取得先進科技的幾天後，華為 (Huawei) 旗下與關聯企業本周於深圳半導體展會上集體亮相，展示涵蓋軟體、晶片製程設備等多項產品，展現中國在晶片領域追趕美國的決心。

受到國家支持的深圳新凱來科技 (Shenzhen SiCarrier Technology) 是參展焦點之一。該公司自 2024 年起被美國列入黑名單，但此次仍公開展示蝕刻與沉積設備。其子公司武漢啟雲方科技 (Wuhan Qiyunfang Technology) 則推出自主開發的電子設計軟體；另一家華為關聯企業深圳欣朗視科技 (Shenzhen Longsight Technology) 展示可支援先進晶片研發的示波器。

這些企業多為華為重要合作夥伴，被視為中國在半導體與人工智慧 (AI) 領域「自主替代」戰略的關鍵力量。展會地點位於華為總部所在的深圳，象徵中國晶片業者響應北京號召、加速以國產零組件與軟體取代美國技術的進展。

報導指出，從 AI 新創公司深度求索 (DeepSeek) 到華為等龍頭，中國企業近來頻頻公開展示敏感技術領域的進展，意在證明多年來的美國制裁並未完全阻止中國科技的前進。今年 9 月，華為罕見發布三年計畫，目標在 AI 晶片市場削弱輝達 (NVDA-US) 的主導地位。

不過，展會同時也凸顯中國與美國的技術差距。思凱瑞的製程設備仍主要對標應材 (AMAT-US) 與科林研發 (LRCX-US) 等美國廠商的舊型產品。而在關鍵的光刻技術領域，展場中幾乎未見相關設備。荷蘭艾司摩爾 (ASML-US) 仍壟斷全球最先進的極紫外光 (EUV) 曝光機，而中國至今仍無法取得該類機台，導致高階 AI 晶片製程受限。

川普上周表示，可能禁止中國軟體進入美國市場，以報復北京對稀土磁材出口施加新限制。稀土磁體是製造晶片設備與電動車的重要材料之一。

加拿大研究機構 TechInsights 最新分析顯示，華為目前在 AI 晶片組裝中仍依賴外國半導體零組件，顯示光刻與先進製程仍是中國科技發展的瓶頸。新凱來尚未公開表示正開發光刻機，但該公司於 2023 年獲得一項專利，內容涉及使用深紫外光 (DUV) 技術達成 5 奈米級製程門檻。

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